Intel voegt ASML's eerste High NA EUV-tool toe aan de fabriek in Oregon

De High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) lithografiescanner van ASML bevindt zich in de D1X-testproductiefabriek van Intel Oregon, waar deze de laatste kalibratie ondergaat. Hij is zo groot als een dubbeldekkerbus en weegt evenveel als een blauwe vinvis. Het zal lasers met lichtsnelheid afschieten en plasma verwarmen tot bijna 220.000 graden Celsius, bijna 40 keer heter dan de oppervlaktetemperatuur van de zon. De nieuwe TWINSCAN EXE: 5000 heeft de mogelijkheid om de schaling van resolutiefuncties voor processors van de volgende generatie dramatisch te verbeteren en zal het voortdurende nastreven van de wet van Moore mogelijk maken. #asml #louwers #cnc #mierlo